西格瑪光機(jī)低散亂光學(xué)平面基板通過(guò)對(duì)平行平面基板和楔形基板進(jìn)行特殊的拋光，表面粗糙度控制在0.2nm（Ra）以下，可以作為需要減少基板的散射影響的高能量激光用反射鏡或X線用反射鏡的基板使用。

西格瑪光機(jī)低散亂光學(xué)平面基板

特征：

●楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時(shí)。

● CaF2（氟化鈣），MgF2（氟化鎂）在紫外譜區(qū)和紅外譜區(qū)具有較高的透過(guò)性。

● 表面粗糙度（微觀的凹凸）和面型精度（面整體的平坦程度）都進(jìn)行了高精度加工，基板接近理想平面。

通用指標(biāo)：

材質(zhì)　　　　合成石英　紫外用CaF2　MgF2

表面粗糙度?。?.2nm(Ra)

有效直徑　　外徑的90%

信息：

>在楔形基板厚的地方印有指向正面的箭頭符號(hào)。

注意：

1.低散射基板的兩面都沒(méi)有鍍膜。玻璃表面存在2.5％?4％的反射。

2.透過(guò)楔形基板使用時(shí)，光束會(huì)有0.5°左右的傾斜。

3.CaF2表面很容易受損，不能用紙擦拭。請(qǐng)使用清潔用壓縮氣罐去除灰塵。

4.CaF2, MgF2長(zhǎng)時(shí)間放置在高濕度的環(huán)境下時(shí)，表面會(huì)變得粗糙。不使用時(shí)，請(qǐng)保管在自動(dòng)干燥箱等濕度較低的環(huán)境中。