西格瑪光機低散亂基板有平行平面和楔形兩種類型，通過對平行平面基板和楔形基板進行特殊的拋光，表面粗糙度控制在0.2nm（Ra）以下。可以作為需要減少基板的散射影響的高能量激光用反射鏡或X線用反射鏡的基板使用。

特點：

●楔形基板用于希望清除分光鏡等反面反射的影響時。

● CaF2（氟化鈣），MgF2（氟化鎂）在紫外譜區(qū)和紅外譜區(qū)具有較高的透過性。

● 表面粗糙度（微觀的凹凸）和面型精度（面整體的平坦程度）都進行了高精度加工，基板接近理想平面。

信息：

>>>在楔形基板厚的地方印有指向正面的箭頭符號。

注意：

1.低散射基板的兩面都沒有鍍膜。玻璃表面存在2.5％?4％的反射。

2.透過楔形基板使用時，光束會有0.5°左右的傾斜。

3.CaF2表面很容易受損，不能用紙擦拭。請使用清潔用壓縮氣罐去除灰塵。

4.CaF2, MgF2長時間放置在高濕度的環(huán)境下時，表面會變得粗糙。不使用時，請保管在自動干燥箱等濕度較低的環(huán)境中。

通用指標：

材質(zhì)　　　　　　　　　　　　　　　合成石英　紫外用CaF2　MgF2

表面粗糙度　　　　　　　　　　　　＜0.2nm(Ra)

有效直徑　　　　　　　　　　　　　外徑的90%